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Machine de dépôt par pulvérisation cathodique à magnétron MINIvappar évaporation thermiqueassisté par faisceau d'ionsde couches minces
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Caractéristiques
- Technologie
- par pulvérisation cathodique à magnétron, par évaporation thermique, assisté par faisceau d'ions
- Type de dépôt
- de couches minces
- Autres caractéristiques
- sous vide
- Applications
- pour l'industrie de la microélectronique, pour applications photovoltaïques
Description
Peut être intégré dans les boîtes à gants MBRAUN existantes (via un sas)
• Pour des substrats jusqu'à 50 x 50 mm
• Conception compacte
• Solution économique
• Délai de livraison court
• Installation rapide et facile
• Rétrofit facile dans les boîtes à gants existantes
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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.