Système de nettoyage à plasma SWC4000

automatiquepour l'industrie des semi-conducteurs

Le SWC4000 de Logitech est un système autonome de nettoyage de tranches de silicium (Single Wafer Cleaning Stand-alone System) permettant un nettoyage optimisé et sans dommage des tranches et des masques utilisés dans l'industrie des MEMS et des semi-conducteurs. Le système SWC4000 offre des capacités de distribution de produits chimiques contrôlées, permettant une meilleure élimination des particules de la surface de l'échantillon. L'utilisation de la fonctionnalité de distribution de produits chimiques en parallèle avec la technologie de nettoyage par mégasons permet un nettoyage hautement optimisé. Les particules libérées sont éliminées de la surface du substrat en les balayant avec le flux radial de l'eau déionisée. Sans cette fonction, les cuves de nettoyage stationnaires permettent un plus grand nombre de recollages de particules, ce qui nécessite un temps de nettoyage supplémentaire pour les éliminer. Le système SWC4000 est capable d'essorage in-situ avec du N2 ou de l'IPA chauffé. le traitement en une étape "Dry-In-Dry-Out" est possible avec l'investissement en capital et le coût de propriété les plus bas. Le temps de traitement des systèmes SWC peut varier entre 3 et 5 minutes par substrat, en fonction de la taille et des options de nettoyage utilisées. Le système SWC4000 a un faible encombrement, ce qui en fait la solution idéale pour toute salle blanche disposant d'un espace limité et recherchant des capacités de nettoyage supérieures sur une variété de substrats. Caractéristiques principales Conçu pour le nettoyage de plaquettes simples jusqu'à 300mm/12″ Idéal pour le nettoyage de plaquettes structurées et non structurées, de germanium (Ge), de Galluim Arsendie (GaAs) et de phosphure d'indium (InP) Solution parfaite pour le nettoyage post CMP, le nettoyage de puces en dés sur un cadre de plaquette, le nettoyage après gravure plasma ou décapage de photorésist, le nettoyage de flans de masques ou de masques de contact et le nettoyage de lentilles optiques