Le iStack™ S+ est conçu pour les applications époxy haut de gamme et les applications d'attachement de matrices de film avec une flexibilité de processus pour prendre en charge à la fois les applications de mémoire et d'image. Ses caractéristiques améliorées comprennent le procédé face vers le bas, l'UV in situ et le mécanisme de détection de la force de liaison, ce qui permet d'améliorer la productivité et la performance.
Caractéristiques et options
Kit haute précision (5 μm)
Kit de manipulation de supports minces (< 100 μm)
Fonctions de mappage (Substrat / Gaufrette)
Kit d'élimination de la contamination des wafers / substrats
Kit OHT / AGV
Kit SMEMA
UV (In-Situ / Post-Bond)
Kit de contrôle de la contamination de l'outil
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