Ce système de recuit à la lampe pour les plaquettes de 4 à 8 pouces permet d'obtenir un traitement de haute qualité, même pour une utilisation en R&D. L'activation et l'oxydation sont disponibles dans un environnement sous vide (LP) et dans une atmosphère de sas N2.
Caractéristiques
Processus de haute performance pour la R&D
Système à faible coût par transfert manuel du suscepteur
La structure de la lampe croisée supérieure et inférieure et le four de trempage améliorent l'uniformité de la température dans le plan
la taille des plaquettes est de 4 à 8 pouces
Equipé d'un système de contrôle haute performance convivial pour l'opérateur
Le tube de quartz conçu pour le vide permet une substitution précise du gaz et un traitement sous vide
Ce système de recuit à lampe pour la R&D de plaquettes de 4 à 8 pouces permet de réduire les coûts de traitement grâce à un chauffage à grande vitesse de 200°C/sec et au transfert manuel des suscepteurs. La structure utilisant des lampes halogènes croisées supérieures et inférieures permet d'obtenir une uniformité de température supérieure dans le plan, ce qui permet un traitement à la fois économique et de haute qualité. Grâce au tube de quartz conçu pour inclure une propriété de résistance au vide, le traitement est disponible dans un environnement de vide propre (LP) et une atmosphère de sas de charge N2.
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