Système de mesure d'épaisseur SpectraFilm™

spectroscopiquepour filmde haute précision

Systèmes de métrologie des films Le système de métrologie de film SpectraFilm™ F1 aide à atteindre des tolérances de processus strictes dans les nœuds de conception de logique inférieure à 7 nm et de mémoire de pointe en fournissant des mesures de film mince de haute précision pour une large gamme de couches de film. La source lumineuse à haute luminosité alimente la technologie d'ellipsométrie spectroscopique qui fournit le signal nécessaire pour mesurer avec précision la bande interdite et donner un aperçu de la performance électrique des semaines plus tôt que le test électronique. Les nouveaux algorithmes FoG™ (Films on Grating) augmentent encore la corrélation de la mesure avec le dispositif en permettant la mesure du film sur une structure de réseau semblable à celle d'un dispositif. Avec un débit accru, le SpectraFilm F1 offre une productivité élevée, prenant en charge l'augmentation du nombre de couches de film associée aux techniques de fabrication de dispositifs de pointe. Applications Surveillance de la bande passante, analyse technique, surveillance des processus en ligne, surveillance des outils, adaptation des outils aux processus Produits apparentés SpectraFilm LD10 Le système de métrologie de film SpectraFilm™ LD10 fournit des mesures fiables et de haute précision de l'épaisseur des films minces et épais, de l'indice de réfraction et de la contrainte pour une large gamme de couches de film au nœud de conception de 16 nm et au-delà.