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Service de dépôt sous vide chimique en phase vapeur

Service de dépôt sous vide chimique en phase vapeur - Keihin Ramtech Co.,Ltd.
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Caractéristiques

Méthode
chimique en phase vapeur

Description

Equipement de pulvérisation verticale de grande surface ・Efficacité de la formation de film 300mm×100mm ・Configuration de l'équipement Chambre de pulvérisation verticale à cathode RAM ・Matériau du film TCO (ITO etc.) / Métaux (Cu etc.) / Oxydes métalliques (NiO etc.) / C (DLC) / Autres

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Ceci est une traduction automatique  (voir l’original en anglais)

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