Source de plasma pour le traitement de surface BS-80011BPG

La source de plasma est incorporée dans une chambre à vide et génère un plasma de haute densité. La source de plasma peut être utilisée pour le dépôt assisté par plasma (placage ionique) et il est possible d'améliorer les propriétés des films pour les couches minces optiques, les films de protection et les films fonctionnels. Elle peut également être utilisée pour le traitement au plasma, comme le nettoyage et la modification de la surface. Caractéristiques Le plasma à basse tension et à grand courant permet d'ioniser et d'exciter les molécules de gaz et les particules évaporées. Un dépôt réactif est possible, particulièrement adapté à la promotion de l'oxydation d'un film. Un plasma de haute densité peut être généré dans un espace de masse, ce qui permet un dépôt à haut débit sur une grande surface. L'adaptation à une chambre à vide existante est possible. Effet Amélioration de la densité du film, de l'indice de réfraction Production de films écologiquement stables Faible décalage de la longueur d'onde Faible absorption optique (promotion de l'oxydation du film) Amélioration de l'adhérence du film Amélioration de la rugosité de la surface Contrôle de la tension du film Caractéristiques techniques Puissance maximale du plasma ： 6kW (160V, 38A) Pression de fonctionnement ： 1×10-2 à 1×10-1Pa (atmosphère Ar, O2, N2) Gaz de décharge (Ar) ： 8 à 20mL/min Eau de refroidissement ： 7 à 10L/min Méthode de faisceau ： sélectionnable entre le faisceau de réflexion et le faisceau d'irradiation