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Système de lithographie à faisceau électronique JBX-3050MV

système de lithographie à faisceau électronique
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Caractéristiques

Type
à faisceau électronique

Description

Le JBX-3050MV est un système de lithographie par faisceau d'électrons à forme variable destiné à la fabrication de masques pour les nœuds de 45 nm à 32 nm. Sa technologie de pointe permet d'atteindre une vitesse élevée, une grande précision et une grande fiabilité. Ce système EB utilise un faisceau d'électrons de 50 kV à forme variable et une platine à répétition. Caractéristiques Le JBX-3050MV est un système de lithographie par faisceau d'électrons pour la fabrication de masques/réticules qui répond à la règle de conception de 45 à 32 nm. Ce système permet l'écriture de motifs à grande vitesse, avec une grande précision et une grande fiabilité, grâce à une technologie haut de gamme.

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.