Spectroscope EV-140C

Ce moniteur de point final de type analyse d'émission est destiné à la détection de point final ou au contrôle de l'état du plasma dans le processus de fabrication de couches minces semi-conductrices à base de plasma. Le nouvel algorithme Rapture Intensity permet une détection précise du point final en capturant les faibles variations du signal. La capacité de capturer des changements subtils dans l'émission a considérablement amélioré la sensibilité. L'immunité au bruit améliorée garantit un fonctionnement très stable dans les environnements hostiles des lignes de fabrication fonctionnant 24 heures sur 24. Caractéristiques Réseau lumineux avec un rapport d'ouverture de F/2 L'utilisation d'un grand réseau concave à correction d'aberration de 70 mm de diamètre fabriqué par HORIBA Jobin Yvon permet d'obtenir un système optique brillant. La capacité de collecte de la lumière du réseau concave lui-même permet la construction d'un système optique simple qui est plus lumineux que les spectroscopes Czerny-Turner et qui peut minimiser la perte de réflexion causée par les miroirs et autres surfaces réfléchissantes. Capteur CCD linéaire rétro-éclairé offrant une grande sensibilité et une haute résolution de 2 048 canaux Le capteur CCD rétro-éclairé présente une efficacité quantique élevée, garantissant une spectroscopie stable dans le large spectre allant des UV au visible. La mesure très sensible possible dans la région UV, en particulier, permet une détection de point final dans la gamme de longueurs d'onde qui est moins affectée par les interférences. Logiciel Sigma-P pour un contrôle avancé des processus Ce logiciel exécute une variété d'étapes nécessaires au contrôle des processus, de l'analyse du comportement du plasma à la création de bases de données de données mesurées et au contrôle à distance de l'équipement de fabrication.