Source d'ions pour spectromètres de masse HAL 201 RC

Un analyseur de gaz résiduels configuré pour les applications UHV exigeantes Les RGA de Hiden pour UHV sont conçus et configurés pour l'analyse des gaz résiduels dans les applications UHV exigeantes où des mesures critiques à UHV sont nécessaires. Analyse des gaz résiduels Détection de fuites Désorption Études de dégazage Cycles d'étuvage Performance des pompes Contaminants des gaz de procédé L'analyseur HAL 201 RC comprend, en standard, des versions plaquées or de tous les types de sources d'ions. La source d'ions plaquée or est fournie pour minimiser le dégazage de la source et convient aux applications où la pression totale est < 5 x 10-10 mbar. EPICS est le logiciel standard de contrôle des instruments utilisé dans de nombreuses sources lumineuses dans le monde entier et le système Hiden HAL est entièrement compatible avec les pilotes logiciels EPICS. Sources d'ions plaquées or pour minimiser le dégazage de la source Ioniseur à impact électronique avec filament en Iridium recouvert d'oxyde double Double détecteur multiplieur d'électrons Faraday/channeltron Pression partielle minimale détectable de 5 x 10-14 mbar Pression de fonctionnement maximale de 1 x 10-4 mbar