Systèmes d'analyse des gaz résiduels pour l'analyse des procédés sous vide
Les systèmes de la série HPR-30 sont des systèmes d'analyse des gaz résiduels configurés pour l'analyse des gaz et des vapeurs dans les procédés sous vide et pour le diagnostic du vide avec une capacité d'échantillonnage allant du vide poussé à la pression atmosphérique. Les systèmes sont entièrement configurables pour des applications de procédés individuels tels que CVD, ALD, gravure au plasma, MOCVD, pureté des gaz de procédé et surveillance des contaminants en cours de procédé.
Caractérisation du plasma
Lyophilisation
CVD / MOCVD / ALD
Traitement sous vide
Analyse des gaz résiduels
XPS proche de l'atmosphère, APXPS
Revêtement optique en couche mince
Les systèmes de la série HPR-30 sont conçus pour une analyse rapide et très sensible des espèces de gaz et de vapeurs dans les procédés sous vide. Les applications comprennent la détection des fuites, la surveillance de la contamination, l'analyse des tendances des processus et l'analyse des espèces de masse élevée et des précurseurs utilisés dans les applications ALD et MOCVD, par exemple.
Les configurations d'échantillonnage sont proposées comme suit :
Le chariot HPR-30 avec entrée d'échantillonnage à double conductance présente une ouverture rentrante à couplage étroit pour un échantillonnage directement dans la région du processus, ce qui permet une intégrité maximale des données et une confirmation rapide de l'état du processus.
Chariot HPR-30 à entrées multiples avec plusieurs entrées flexibles, d'une longueur de 1 m, et connexion à un collecteur à trois vannes avec commutation automatique pour une analyse sur une large gamme de pression de processus.
HPR-30 SGL avec une seule ligne d'échantillonnage chauffée pour les applications où l'espace est limité pour le raccordement de l'échantillonnage et où l'analyse des produits de réaction moins volatils nécessite une solution d'entrée entièrement chauffée. L'acquisition de données à résolution temporelle, adaptée à la surveillance du processus de dépôt pulsé, est proposée en option.
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