Hellma Materials CaF2 est utilisé depuis de nombreuses années comme matériau de clé optique en microlithographie pour la production de semi-conducteurs. Le CaF2 s'est imposé comme un matériau standard de l'industrie pour l'optique laser excimère en optique de projection et d'éclairage. Les propriétés optiques uniques du CaF2 permettent une variété d'applications avancées.
Applications
Grâce à sa qualité optique supérieure et à son excellente transmission dans les gammes spectrales UV, VIS et IR, Hellma Materials CaF2 peut être utilisé dans de nombreuses applications :
Optique IR
Optique pour instrumentation astronomique
Optique spatiale
Optique de microscope
Optique de spectroscopie
Optique UV
Fenêtres laser
Optique laser Excimer
Optique de microlithographie
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