Four à diffusion

à chambrede recuitd'oxydation

La diffusion à basse pression est actuellement considérée comme un moyen efficace d'améliorer le rendement de conversion des cellules solaires. La diffusion à basse pression est actuellement considérée comme un moyen efficace d'améliorer le rendement de conversion des cellules solaires. La diffusion à basse pression/le recuit d'oxydation diffusée améliore le libre parcours moléculaire de la source de diffusion et résout les problèmes de profondeur et d'uniformité de la diffusion. Par rapport à la diffusion à pression atmosphérique, elle présente des avantages significatifs, tels qu'une productivité élevée, une résistance élevée à l'équarrissage, la répétabilité du processus, une faible consommation de la source, la propreté et le respect de l'environnement, etc. Cet équipement est principalement utilisé pour le dopage par diffusion et le recuit d'oxydation des plaquettes de silicium dans la fabrication de cellules solaires en silicium cristallin. Caractéristiques principales Processus mature de grande capacité, système de chargement et de déchargement : conception équilibrée et symétrique pour améliorer la stabilité ; Corps du four à refroidissement rapide : La dernière technologie brevetée permet à la température du corps du four de chuter rapidement à la température requise, la vitesse de refroidissement est augmentée de plus de 25 %, ce qui peut améliorer l'uniformité de la température dans le tube du four de manière évidente ; Les gaz d'échappement sont collectés par un condenseur à haut rendement refroidi à l'eau afin de garantir un fonctionnement stable et fiable des tuyaux, des vannes, des filtres et des pompes à membrane, ainsi que de longues périodes d'entretien ; Conception stable du pipeline de source anti-interférence pour réduire la fluctuation de la résistance carrée causée par les perturbations des facteurs environnementaux ; Système MES/CCRM doté d'une architecture complète et de performances exceptionnelles.