Machine de dépôt PECVD

de couches minces de siliciumpour applications photovoltaïques

Une couche de film antireflet en nitrure de silicium (SixNy) d'une épaisseur d'environ 75-140 nm est déposée sur la surface de la plaquette de silicium Une couche de film de nitrure de silicium antireflet (SixNy) d'une épaisseur d'environ 75-140nm est déposée sur la surface de la plaquette de silicium, et la surface et l'intérieur de la plaquette de silicium sont passivés en utilisant les ions H+ actifs générés pendant le processus de dépôt. Tout en réduisant la réflexion de la lumière, il améliore également la durée de vie des porteurs minoritaires des plaquettes de silicium, ce qui se reflète finalement directement dans l'efficacité de conversion des cellules en silicium cristallin, principalement utilisées dans la croissance des films de nitrure de silicium à l'avant et à l'arrière des cellules PERC/TOPCon. Principaux paramètres Processus mature à haute capacité, technologie de contrôle de la température à double mode, technologie de protection de la jauge du film ; Le mécanisme breveté "push-pull" soutenu aux deux extrémités permet d'éliminer l'instabilité, d'augmenter la vitesse de 30 %, d'accroître la capacité de charge et d'améliorer considérablement la fiabilité. Le temps d'entrée et de sortie du bateau ne dépasse pas 20 secondes (sans compter la prise et la mise en place du bateau) ; Refroidissement rapide du corps du four : la dernière technologie brevetée permet à la température du corps du four de chuter rapidement à la température requise, la vitesse de refroidissement est augmentée de plus de 25 %, ce qui peut améliorer l'uniformité de la température dans le tube du four de manière évidente ; Méthode brevetée de dissipation parallèle de la chaleur de la position de stockage du bateau : améliore l'effet de refroidissement, réduit le temps de refroidissement de plus de 15 % et évite la prise d'air par le bas de l'avant de la console afin d'améliorer la propreté interne de la console ; Technologie de contrôle en boucle fermée de la pression adaptative rapide ;