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Résine pour semiconducteurs i-Line
photo-sensible

Résine pour semiconducteurs - i-Line - Fujifilm NDT Systems - photo-sensible
Résine pour semiconducteurs - i-Line - Fujifilm NDT Systems - photo-sensible
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Caractéristiques

Applications
pour semiconducteurs
Autres caractéristiques
photo-sensible

Description

Série étendue de photoréserves à sensibilité moyenne pour les applications critiques et non critiques, avec une résolution allant de moins de 0,30 µm à plus de 1,0 µm sur divers substrats et une large gamme d'épaisseurs de résine. Résumé du produit - Réserves i-Line avancées pour les substrats non-réfléchissants Familles de résistances conçues pour des CD critiques exigeants (500 nm CD) et des motifs robustes : - Série OiR 305 - Série OiR 366 - Série OiR 906 - Série OiR 907 - Résistances polyvalentes croisées g- et i-Line Série de résistances offrant des motifs robustes pour les lignes g, i et large bande (>800 nm CD) : - Série HiPR 6500 - Série HPR 510 - Réserves teintées pour les substrats hautement réfléchissants Série de résistances offrant des densités optiques élevées, sans blanchiment, pour le contrôle du CD et du grugeage sur des substrats hautement réfléchissants : - OiR 906MD - OiR 906HD - OiR 305HC - HiPR 6500GH - HiPR 6500HC - Résistances i-Line pour les applications plus épaisses Série de résistances pour les besoins de structuration de films plus épais allant de 3 à 13 µm d'épaisseur : - FHi-560EP - GiR 3114 - OiR 305 - OiR 908

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.