Résine pour semiconducteurs i-Line

photo-sensible

Série étendue de photoréserves à sensibilité moyenne pour les applications critiques et non critiques, avec une résolution allant de moins de 0,30 µm à plus de 1,0 µm sur divers substrats et une large gamme d'épaisseurs de résine. Résumé du produit - Réserves i-Line avancées pour les substrats non-réfléchissants Familles de résistances conçues pour des CD critiques exigeants (500 nm CD) et des motifs robustes : - Série OiR 305 - Série OiR 366 - Série OiR 906 - Série OiR 907 - Résistances polyvalentes croisées g- et i-Line Série de résistances offrant des motifs robustes pour les lignes g, i et large bande (>800 nm CD) : - Série HiPR 6500 - Série HPR 510 - Réserves teintées pour les substrats hautement réfléchissants Série de résistances offrant des densités optiques élevées, sans blanchiment, pour le contrôle du CD et du grugeage sur des substrats hautement réfléchissants : - OiR 906MD - OiR 906HD - OiR 305HC - HiPR 6500GH - HiPR 6500HC - Résistances i-Line pour les applications plus épaisses Série de résistances pour les besoins de structuration de films plus épais allant de 3 à 13 µm d'épaisseur : - FHi-560EP - GiR 3114 - OiR 305 - OiR 908