Solvant de nettoyage

pour l'électroniquepour les résidus de gravure

Etchants Une gamme complète de mélanges d'agents de gravure de spécialité et exclusifs Nous proposons une large gamme de ratios d'hydrofluorure (HF) dilués, de décapants à base d'oxydes tamponnés (BOE) - avec ou sans tensioactif, de décapants acides mixtes (MAE) et de décapants spéciaux pour métaux Résumé du produit - Oxydes tampons de gravure - Fujifilm dispose de capacités avancées pour le mélange précis d'agents de gravure tamponnés avec des gammes de spécifications d'essai serrées, disponibles en plusieurs rapports NH4F:HF - Utilisé pour graver les films en SiO2 - Utilisé comme préparation de surface pour la prédiffusion et la pré-métallisation - Formulé à partir d'acide fluorhydrique à 49% de haute pureté et de fluorure d'ammonium à 40% de haute pureté - Disponible avec et sans agent de surface - Diluer HF - Fujifilm dispose de capacités avancées pour le mélange précis d'HF dilué avec des gammes de spécifications d'essai serrées - Taches de rousseur - Pour l'élimination des nodules de silicium résiduels laissés après la gravure des couches d'aluminium-silicium-cuivre - Graveurs d'acides mixtes - Pour la gravure isotrope du silicium (mono et polycristallin) - Spécialités des tampons de gravure - Utilisé pour graver les verres de passivation finale déposés par pyrolyse et pulvérisation cathodique afin d'exposer les plots de connexion des semi-conducteurs pour la connexion des fils - Disponible avec et sans notre agent de surface SST - Spécialités de gravure des métaux Pour l'élimination sélective de couches métalliques spécifiques, Fujifilm propose divers décapants spéciaux, notamment - Spécialités de gravure sur aluminium : Gravants par immersion pour les couches de métallisation de l'aluminium - Disponibles avec ou sans le tensioactif Fujifilm pour la gravure de l'aluminium (AES) - Chrome Etch : un mélange spécial pour le modelage des couches de chrome