Système de mesure d'épaisseur optiquepour waferpour applications industrielles
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Caractéristiques
- Grandeur physique
- d'épaisseur
- Technologie
- optique
- Produit mesuré
- pour wafer
- Applications
- pour applications industrielles, pour l'électronique
- Autres caractéristiques
- de haute précision, à grande vitesse, 2 axes
Description
Face aux entreprises de production de matières premières en amont de la chaîne industrielle des semi-conducteurs, le système de mesure confocale spectrale développé indépendamment est utilisé pour détecter la taille et la planéité des plaquettes de semi-conducteurs brutes et épitaxiées.
Avantages du produit :
Large gamme d'applications
Utilisé pour les plaquettes originales de 4 à 8 pouces, les substrats et les plaquettes épitaxiales de divers matériaux et conditions de polissage
Grande précision de mesure
Plage d'épaisseur : 0-1mm précision de mesure : ± 1 μ M précision de répétition : 0,2 μ m
Temps de mesure court
Temps de mesure : 30s / PCS (selon la trajectoire de détection du client)
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Catalogues
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Specialized Products for Semiconductor Industry
* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.