Objectif de microscope zoom MXPLFLN series

pour inspection des semi-conducteurssemi-apochromat

Nous avons utilisé une nouvelle technologie de fabrication pour créer des objectifs offrant simultanément une ouverture numérique, une distance de travail et une planéité d’image améliorées. Leur ouverture numérique (O. N.) élevée et leur distance de travail de 3 mm améliorent le champ d’observation et la qualité de l’image du centre à la périphérie, ce qui permet un meilleur rendement lors de l’inspection automatisée des semi-conducteurs. Objectifs 20X et 50X en fond clair disponibles.   Objectifs semi-apochromatiques MX plans avec ouverture numérique élevée et grande distance de travail – MXPLFLN • Conçus pour les méthodes d’observation en fond clair, en contraste interférentiel (CID), en fluorescence et en lumière polarisée simple • Associent une grande ouverture numérique, une grande distance de travail et une bonne planéité d’image • Disponibles en grossissements 20X et 50X avec une distance de travail de 3 mm MXPLFLN50X Le MXPLFLN50X est notre premier objectif 50X proposant une ouverture numérique de 0,8 et une distance de travail de 3 mm. Par rapport à un objectif LMPLFLN100X, le champ d’observation est quatre fois plus grand grâce à l’ouverture numérique de 0,8 à un grossissement de 50X. MXPLFLN20X Le MXPLFLN20X est notre premier objectif 20X proposant une ouverture numérique de 0,6 et une distance de travail de 3 mm. Sa grande ouverture numérique et sa très bonne planéité d’image produisent des images homogènes idéales pour l’assemblage.