Système de lithographie laser EVG®770 NT

Système de lithographie par nano-impression à étapes et répétitions Lithographie par nano-impression par étapes et répétitions pour la fabrication efficace de maîtres L'EVG770 NT est une plateforme polyvalente pour la lithographie par nano-impression en mode pas-à-pas (S&R) pour la fabrication efficace de maîtres ou le modelage direct de structures complexes sur des substrats. Cette approche permet la réplication uniforme de modèles à partir de petites matrices jusqu'à 30 cm². Le procédé S&R permet de reproduire ces matrices plusieurs fois sur de grandes surfaces, jusqu'à des substrats de la taille d'un panneau Gen2. En combinaison avec le tournage au diamant ou les méthodes d'écriture directe, l'impression S&R est fréquemment utilisée pour fabriquer efficacement les matrices nécessaires à la fabrication de plaquettes optiques ou au procédé SmartNIL d'EVG. Il s'agit donc souvent d'une condition préalable essentielle à la fabrication en grande série de guides d'ondes de réalité augmentée, de capteurs optiques, d'optiques diffractives, de métasurfaces ou de dispositifs biomédicaux. Les principales caractéristiques de l'EVG770 NT comprennent des capacités d'alignement précis, un contrôle total du processus et la flexibilité nécessaire pour répondre aux exigences de processus d'une grande variété de structures et de matériaux. Fabrication maîtresse de haute qualité de microlentilles pour l'optique au niveau des plaquettes jusqu'aux nanostructures pour SmartNIL® Mise à l'échelle efficace pour les substrats de grande taille, jusqu'à la taille des panneaux Mise en œuvre simple de différents types de maîtres Modes de dépose de résistances variables Image en direct pendant la dépose, l'impression et le démoulage Contrôle de la force in-situ pour l'impression et le démoulage Contrôle optique de la distance et mesure de l'écart en direct Métrologie en ligne en option Tampon de tampon et échange automatique en option Manipulation automatique de cassette à cassette en option 80 mm, 4", 6", 8", 12", Gen2 (370 mm x 470 mm) < +/- 1 µm < +/- 250 nm