Système de photolithographie UV-NIL UV/EVG®620 NT

Reconnu pour sa flexibilité et sa fiabilité, l'EVG620 NT offre une technologie d'alignement des masques de pointe sur un encombrement réduit. Un logiciel convivial pour l'opérateur, un temps de changement de masque et d'outillage réduit au minimum, ainsi qu'un service après-vente mondial efficace en font la solution idéale pour tout environnement de R&D jusqu'à la production en série semi-automatisée. L'outil prend en charge une variété de procédés lithographiques standard, tels que les modes d'exposition sous vide, doux, dur et de proximité, avec possibilité d'alignement par l'arrière. De plus, le système offre des capacités supplémentaires pour des configurations polyvalentes, y compris l'alignement de liaison et la lithographie par nanoimpression. De plus, la technologie brevetée SmartNIL de l'EVG est prise en charge sur des configurations de système semi-automatiques et entièrement automatisées. SmartNIL est la technologie NIL leader de l'industrie, permettant de modéliser des caractéristiques extrêmement petites jusqu'à moins de 40 nm*, ainsi qu'une large gamme de tailles et de formes de structures. La combinaison de SmartNIL et de la technologie soft-stamp multi-usage permet d'obtenir un débit inégalé avec des avantages considérables en termes de coût de possession, tout en préservant l'évolutivité et la facilité d'entretien. La SmartNIL d'EVG permet de tenir la promesse à long terme que la nano-impression est une technologie de lithographie alternative à faible coût et à grand volume pour la fabrication en série de structures micro et nanométriques. *la résolution dépend du processus et du modèle