Filtres intégrés micro de gaz de Wafergard® III N-F
Filtration particulaire supérieure pour la filtration de système de gaz d'ultrapure
Le plus propre, la plupart des filtres entièrement métalliques efficaces disponibles
La membrane brevetée de filtre de nickel offre la résistance à la corrosion supérieure et l'excellente compatibilité avec les gaz inertes et réactifs. (Non recommandé pour l'usage avec la Co, l'O3 et les gaz de bas niveau de dopant d'hydrure.)
Idéal pour des applications de température et de dynamique-pression
Matériaux :
Élément filtrant : Filtre de membrane breveté et aggloméré de nickel.
Logement : Logement d'acier inoxydable d'Electropolished F20
Intérieur extérieur de finition : Ra du μin <=5
Estimation de fuite d'hélium : 2 `qualifié 10-10 atmosphère-cc/sec. Examiné 1 `10-9 atmosphère-cc/sec.
Propreté descendant :
Particles1 : Moins de 0.03 particule/litre (μm =0.003
Conservation de particules :
Plus considérablement que 99.9999999% déplacement (9 LRV) de toutes les particules (tout au plus dimension particulaire pénétrante référencée)
Conditions de fonctionnement :
Pression d'admission maximum : barre 207 (3000 livres par pouce carré) @100°C
Différence de pression maximum vers l'avant/inverse : barre 35 (500 Psid)
Température de fonctionnement maximum : Gaz inertes 400°C aux gaz corrosifs et réactifs 50°C de la barre 35 (500 livres par pouce carré) à la barre 70 (1000 livres par pouce carré)
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