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Source d'ions Endeavor RF

Source d'ions - Endeavor RF - Denton Vacuum
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Description

La source d'ions RF Endeavor de Denton est conçue pour fonctionner sans filament et utilise une seule grille d'extraction. Comme le flux d'électrons extraits de la source est suffisant pour neutraliser la charge d'espace du faisceau d'ions et éliminer les arcs de charge d'espace dans la chambre, cette source d'ions RF ne nécessite pas de neutralisateur d'électrons auxiliaire, tel qu'un filament chaud ou une cathode creuse. Recherche et fabrication de : Dispositifs optiques Photonique Dispositifs magnétiques et microélectroniques La capacité de produire et de contrôler des espèces ioniques avec une énergie, une réactivité chimique, une densité de courant et une trajectoire spécifiques fait des sources d'ions des outils efficaces pour créer des films et des surfaces de précision. La densification, la transmission optique, l'uniformité de l'épaisseur critique, les interfaces lisses, l'amélioration de l'adhérence et les parois latérales verticales sont quelques-unes des propriétés matérielles recherchées que permettent les sources d'ions pendant le dépôt de couches minces. Denton propose sa source d'ions CC-106, développée en interne. Le CC-106 est une source CC à cathode froide à large faisceau conçue pour le dépôt assisté par ions et les processus de pré-nettoyage, utilisant de l'oxygène ou de l'argon. Nous offrons maintenant notre nouvelle source d'ions Endeavor RF sans filament, actuellement disponible sur les nouveaux systèmes.

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.