Machine de dépôt par pulvérisation cathodique Discovery V

par pulvérisation cathodique à magnétronpour l'industrie de la microélectronique

Le Discovery V est optimal pour une utilisation sur la plateforme Versa Cluster. Il offre une uniformité serrée, un taux de profondeur élevé, un faible encombrement et un temps de fonctionnement élevé, offrant ainsi polyvalence et fiabilité tout en répondant aux besoins de production à haut volume. Résistances et capteurs à couches minces Films métalliques et diélectriques de wafer Contacts métalliques de semi-conducteurs composés Recherche et développement Le Discovery V est un module de dépôt uniforme rapide, entièrement intégré à la plate-forme Versa, qui utilise une cathode planaire pour la pulvérisation magnétron. Il utilise une cathode de 300 mm et peut être utilisé pour des applications de plaquettes standard jusqu'à 200 mm. Il utilise un pack d'aimants rotatifs ajustables pour l'optimisation de l'uniformité et fournit des taux élevés pour la fabrication de gros volumes. Dans une configuration à cathode planaire, la cathode est montée directement au-dessus du substrat. Avec cette configuration, vous pouvez obtenir une uniformité étroite sur un côté du substrat pendant la pulvérisation pour des propriétés telles que l'épaisseur du film, la résistance de la feuille et l'indice de réfraction. C'est la configuration idéale pour les applications où la co-pulvérisation n'est pas nécessaire. Cette configuration de cathode offre également un meilleur rendement, une bonne capacité de décollage et une vitesse de dépôt élevée.