Machine de dépôt par pulvérisation cathodique

de couches mincessolaire

Le système Infinity IBD produit des films denses et à faible taux de défauts avec une précision et une uniformité extrêmement élevées. Il offre un contrôle indépendant des énergies ioniques, ce qui vous permet d'obtenir des spécifications de films minces précises avec une contamination très faible due à l'écaillage. Le module Bias Target Sputter offre un excellent contrôle des interfaces des couches minces, permet un contrôle indépendant des courants et des énergies des ions et fonctionne à basse pression. Cela permet d'éliminer la contamination et la diffusion dues au débordement du faisceau, d'éviter les dommages de surface, de contrôler étroitement les contraintes et de créer des films denses et sans défaut. Le module BTS améliore le coût de possession grâce à une utilisation accrue de la cible qui permet de réduire la taille globale de la cible. La conception du système permet d'obtenir une excellente uniformité sur de grands substrats sans rotation. Le module offre une pulvérisation pulsée et un taux de dépôt plus élevé par rapport aux autres plateformes IBD. Toutes ces caractéristiques et avantages uniques sont soutenus par l'engagement de Denton en matière de partenariat et de service à long terme. Grâce à nos experts, vous recevrez une configuration hautement fiable répondant à vos besoins et à vos spécifications, offrant un temps de fonctionnement élevé du système et une grande facilité de maintenance. Microbolomètres à l'oxyde de vanadium Optiques de précision (lasers, détecteurs IR) Revêtements anti-reflets VCSEL Cellules solaires à haut rendement Valves à spin pour l'enregistrement magnétique Matrices de plans focaux Imagerie thermique Facettes de barres laser