Miroir multicouche

diélectriquechaudfroid

- Substrat de saphir synthétique de grande pureté - Excellente planéité et parallélisme de la surface - Revêtement de qualité à haute réflexion - Propriétés spectrales proches des valeurs théoriques - Faible absorption, faible diffusion - Seuil d'endommagement du laser élevé Le saphir à haute réflexion possède d'excellentes propriétés mécaniques et optiques. Il est solide et résistant aux chocs chauds et froids. La surface est recouverte d'un film hautement réfléchissant entièrement diélectrique, qui peut atteindre une réflectivité de plus de 99,9 %. Il est généralement utilisé comme réflecteur dans les lasers ou systèmes de haute puissance. Caractéristiques des substrats de miroir laser à haute réflectivité en saphir Un miroir laser à haute réflectivité en saphir de haute qualité doit utiliser un monocristal de saphir de qualité laser (Al2O3) comme substrat. Le cristal ne contient ni impuretés, ni inclusions, ni bulles, ni biréfringence. Il est ensuite découpé avec précision, meulé et soumis à une profonde CMP pour obtenir un substrat optique en saphir présentant un profil précis, une excellente qualité de surface et une grande planéité. La surface non travaillée du miroir laser à haute réflectivité en saphir peut être polie ou finement meulée. Caractéristiques du revêtement des miroirs laser à haute réflectivité en saphir Les revêtements traditionnels à haute réflectivité sont des films multicouches composés de matériaux à haut indice de réfraction et à faible indice de réfraction d'une épaisseur optique de 1/4 pour une longueur d'onde spécifique. En augmentant le nombre de couches, la réflectivité peut dépasser 99,9 %, voire plus. Tous les films optiques sont plaqués dans des environnements ultra-propres et dans des conditions de vide très poussé. Le revêtement à haute réflectivité présente les caractéristiques d'une faible absorption, d'une faible diffusion et d'un seuil élevé d'endommagement par laser.