Le système de masques Tropel® UltraFlatTM 200 a été spécialement conçu pour l'industrie des masques photographiques. Il fournit l'incertitude de mesure la plus faible pour les spécifications de planéité de masque toujours plus serrées. Les caractéristiques des dispositifs de rétraction nécessitent non seulement des plaquettes plus plates, mais aussi des masques plus plats.
Le système UltraFlatTM est utilisé pour mesurer la planéité des photoblancs et des photomasques à toutes les étapes de la fabrication et de l'utilisation, y compris le polissage du substrat, le revêtement et la structuration pour analyser la tension du film et la vérification.
Le système UltraFlatTM utilise une interférométrie d'incidence proche de la normale, une conception structurelle solide comme le roc, des techniques de fabrication optique de pointe et le célèbre logiciel d'analyse à déphasage Tropel pour fournir une incertitude de mesure de 20 nanomètres.
Le système est traçable par le National Institute of Standards and Technology (NIST) et fournit des mesures conformes aux normes SEMI. Une configuration automatisée de manipulation et de mesure des masques photographiques est également disponible.
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