Machine de dépôt ALD C30H ALD

de parylène

Idéal pour les essais en laboratoire et la production industrielle de petites pièces Parfaitement adapté aux composants 3D de forme complexe Dépôt ALD d'Al2O3 et de TiO2 Source de plasma à distance Panneau de gaz avec 4 lignes de précurseurs chauffés par défaut, plus sur demande. Dimensions globales (L x l x H) - 2250 x 1160 x 1450mm Poids - 350 kg Taille de la chambre - ∅ 295 x 370 mm Taille de l'outillage - ∅ 260 x 320 mm Charge maximale de l'outillage - 100 kg Capacité de charge du dimer - 150g Capacité de pompage - 40 m3/h Alimentation électrique requise - 3 x 400V + N + PE - 50 Hz 3 x 25A - 15kW Chambre thermalisée - Plage de température : 20 - 80°C Alimentation électrique : 3 x 400V + PE - 50Hz 3x 14A - 9kW Plasma à distance Source de plasma à distance - Fréquence : 1.7 - 3MHz Puissance : 3000W In Situ RF capacitif Source Plasma - - Standard transformable matériaux - Parylène : C, D, N, F-VT4, F-AF4 ALD : Al 2 O 3 , TiO Procédé température - Parylène : température ambiante ALD : 60 - 80°C