Système laser de dopage SolarLase-G3SE

de puissance

Taille de la tranche : 156-166mm Fonction : Dopage laser SE Plate-forme : Table tournante et scanner Galvo Caméra de haute précision pour l'alignement SolarLase-G3SE est un système de dopage laser SE pour la production de cellules solaires c-Si à haut rendement à 7000+WPH. Sa plaque optique en granit thermiquement stable peut accueillir deux lasers de 532 nm, chacun ayant sa propre trajectoire de faisceau indépendante. Les trajectoires du faisceau sont flexibles, les réglages du diamètre du faisceau, de la puissance du laser et de l'obturateur pouvant être contrôlés individuellement. La plaque optique en granit est essentielle à la stabilité des performances optiques et mécaniques. Le SolarLase-G3SE est un système laser sûr de classe I ; il est également équipé d'un système d'élimination des débris pour garder la pièce propre. Le SolarLase-G3SE offre d'excellentes capacités d'alignement des plaquettes, car les cellules c-Si à haut rendement de la prochaine génération exigent un alignement toujours plus précis qu'auparavant. Les caméras à fort grossissement peuvent détecter avec précision les bords de la tranche ou les marques sur la tranche, ce qui permet de superposer avec précision les motifs écrits au laser entre deux étapes de traitement successives. Le logiciel d'application du SolarLase-G3SE offre une interface utilisateur conviviale, permettant la création, l'édition, la sauvegarde et le chargement de recettes, ce qui rend le traitement des wafers très efficace. Pour chaque système SolarLase-G3SE, nous évaluons les exigences et les plans spécifiques du client afin de pouvoir personnaliser l'outil pour mieux répondre à ses besoins individuels.