Machine de polissage silicium TAP series
pour semi-conducteurpour waferstour

machine de polissage silicium
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Caractéristiques

Matière usinée
silicium
Application
pour semi-conducteur, pour wafers
Fonction combinée
tour
Autres caractéristiques
simple-face, à table rotative, à deux têtes, à grande vitesse

Description

Ces machines sont des machines de polissage simple face de haute précision à deux axes. La tête de polissage peut tourner, pivoter et travailler à haute pression et à grande vitesse, elle peut polir une ou plusieurs plaquettes et répondre aux exigences de polissage de haute précision de divers matériaux. Corps en fonte, haute stabilité de l'équipement Fonction de rotation et d'oscillation de la tête de polissage Polissage à grande vitesse Interface d'opération de conversation homme-machine, fonctions complètes et opération facile.

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* Les prix s'entendent hors taxe, hors frais de livraison, hors droits de douane, et ne comprennent pas l'ensemble des coûts supplémentaires liés aux options d'installation ou de mise en service. Les prix sont donnés à titre indicatif et peuvent évoluer en fonction des pays, des cours des matières premières et des taux de change.