Le système Wafer™ est la nouvelle génération de systèmes d’UV à moyenne pression.
De par sa conception, il constitue le système UV le plus compact actuellement disponible sur le marché. Représentant seulement un tiers de la taille des systèmes UV comparables, avec des besoins en maintenance considérablement moindres, le système Wafer permet de concevoir des solutions faciles à installer et à faire évoluer, qui s’adapteront aux locaux les plus exigus.
Le système d’UV Wafer a été conçu pour être le plus compact du marché ; la conception optimisée de son réacteur hydraulique et la technologie de pointe des lampes polychromatiques en font également l’un des plus efficaces et des plus performants. Au minimum, le système Wafer assure une réduction de 99,9 % des micro-organismes résistants au chlore tels que Cryptosporidium et Giardia, ce qui le rend idéal pour les besoins en eau potable. Certains modèles de la gamme sont également approuvés selon le protocole de validation UVDGM de l’EPA, et ont l’ACS ce qui en fait des unités idéales pour les applications critiques.
Les exploitants bénéficieront également du système de commande SPECTRA II en standard, intégrant un large éventail de fonctions telles que la surveillance des flux de données, les verrouillages de processus et les points de consigne programmables. L’une de ses principales fonctionnalités est l’échelonnement variable de la puissance de 100 % à 30 % sans frais supplémentaires, permettant aux exploitants d’optimiser la puissance opérationnelle de leur système en fonction du nombre d’usagers et des heures d’ouverture de la piscine.