Production avancée d'ozone avec des modules de décharge plasma à quartz JENA à double paroi utilisant une haute fréquence générée par des dispositifs IGBT innovants. Le gaz d'ozone produit est totalement exempt de particules métalliques et convient donc aux technologies propres comme les semi-conducteurs et les processus médicaux. L'efficacité des technologies AOP est étonnante, notamment pour l'oxydation des eaux usées en combinaison avec les réacteurs tubulaires AOPR. Ceci est dû à un taux de transfert de masse 10 fois supérieur à celui des générateurs d'ozone classiques. Les TCO sont nuls puisqu'aucun joint n'est intégré et que les modules de décharge ne peuvent être affectés par aucune corrosion. Par conséquent, l'appareil ne nécessite aucune maintenance et est prêt pour un long cycle de vie. L'encrassement des électrodes et la diminution de la capacité d'ozone sont impossibles. Les gaz de dopage, comme N2, Ar ou autres, ne sont pas nécessaires. Tout type et toute qualité de gaz porteur peuvent être utilisés - air sec, air humidifié, air ambiant, oxygène provenant de systèmes SEP/PSA ou oxygène pur (toute classe) provenant d'une bouteille.
+ Traitement des semi-conducteurs
+ Oxydation et stérilisation de l'eau
+ Traitement de l'eau ultra-pure (UPW)
+ Assainissement des surfaces
+ Production alimentaire
+ Abattoirs
+ Production pharmaceutique
+ Recherche et développement
+ Installations pilotes
+ Installations pilotes
Capacité d'ozone : 100 ... 1000 g O3/h
Enthalpie de l'ozone : 400 g O3/h @ 3.000 Nl/h (SEPgas)
Concentration d'ozone : 0.1 ... 190 g O3/Nm3
Débit de gaz : 0.1 - 10.000 Nl/h avec MFC
Plage de contrôle de la fréquence : 0.1 - 100% de la capacité
Télécommande : interface intégrée, interrupteur de sécurité
Gaz porteur : tout gaz contenant de l'oxygène, sans huile
Refroidisseur : refroidissement par eau
Dimension : 19"/43HU/600 mm, montage en rack ou boîtier portable
Armoire : H2400 mm x P600 mm x W1500 mm
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