Cible de pulvérisation cathodique pour dépôt en couche mince

Les matériaux de dépôt physique en phase vapeur (PVD) comprennent une gamme de matériaux qui peuvent être utilisés pour créer des revêtements en couches minces. Angstrom Sciences offre une sélection complète de matériaux de dépôt sous vide de haute pureté, y compris ceux présentés ci-dessus. Trois facteurs influencent la qualité et la fonctionnalité d'un film déposé par dépôt physique en phase vapeur (PVD) : la qualité et la performance de la source de dépôt, les propriétés et la structure des matériaux de dépôt, et la performance intrinsèque et l'agencement du système de dépôt et de ses périphériques associés. Angsstrom Sciences a les capacités et le savoir-faire pour contrôler deux de ces trois facteurs principaux. Des cibles de pulvérisation de toutes tailles aux matériaux utilisés pour l'évaporation thermique / e-beam, Angstrom Sciences a la capacité de suggérer et de diriger les matériaux les plus appropriés pour n'importe quelle application. Tous les matériaux ne sont pas équivalents dans ces procédés car la composition chimique du matériau source n'est que le point de départ d'un procédé robuste et spécifique à l'application. Les niveaux d'impureté, la taille des grains, la structure cristallographique et la texture ne sont que quelques-unes des considérations qui entrent en ligne de compte dans l'adaptation unique d'une structure de dépôt appropriée. Nous avons recours à diverses techniques de traitement spécialisées telles que le pressage à chaud, le pressage à froid, le pressage isostatique à chaud (HIP), le pressage isostatique à froid (CIP), la fusion par induction sous vide (VIM) et le moulage par arc sous vide pour produire des matériaux homogènes, à grain fin et de haute densité, conformes aux normes d'application les plus strictes. Tous nos matériaux PVD sont fournis avec une analyse de composition et d'impureté traçable au NIST.