Cible de pulvérisation cathodique en titane

Les plaques d'appui utilisées dans le processus de pulvérisation sont essentielles pour créer un dépôt de film mince de qualité pour votre produit. Nous proposons des plaques d'appui dans des configurations standard et des dimensions personnalisées pour répondre à vos besoins spécifiques. Nous proposons également des services complets de collage afin de fournir une solution complète. Angstrom Sciences fournit des plaques d'appui personnalisées pour s'adapter à la cathode de n'importe quel fabricant. Nos capacités d'usinage internes nous permettent de fabriquer une gamme complète de plaques d'appui selon les spécifications de l'équipement d'origine ou les dimensions personnalisées de la cathode avec le plus haut niveau de contrôle de la qualité. Chez Angstrom Sciences, aucune commande n'est trop petite ou trop grande. Il n'y a pas d'exigence de taille minimale de lot pour les compositions personnalisées et notre attention extraordinaire pour le service à la clientèle fait l'envie de l'industrie. Nous fournissons régulièrement des plaques de support (cuivre, molybdène, cuivre-chrome) pour les cibles de pulvérisation planaires, circulaires et cylindriques, des pâtes conductrices et des tampons pour le refroidissement des cibles de pulvérisation, et nous offrons également des services de collage dans le cadre de notre gamme complète de services à la communauté PVD.