Magnétron pulsé HiPIMS

La pulvérisation magnétron à haute puissance ou HiPIMS est une avancée relativement récente dans la technologie de pulvérisation pulsée qui utilise des impulsions de très haute énergie et de courte durée pour générer une décharge de plasma qui ionise un grand pourcentage des atomes pulvérisés. Le flux ionisé peut ensuite être guidé pour un meilleur contrôle des propriétés du revêtement. Angstrom Sciences a développé une série de cathodes de pulvérisation capables de supporter ces densités de puissance extrêmes de plus de 1500 Watts/in2 pour des applications de production en continu et à long terme. En plus de notre système breveté de refroidissement turbulent de la cible, les cathodes de pulvérisation magnétron pulsées à haute puissance d'impulsion d'Angstrom Sciences intègrent des canaux de refroidissement supplémentaires dans le corps de l'anode et les brides de montage afin de maintenir un refroidissement optimal pendant le fonctionnement du processus. D'autres caractéristiques comprennent des réseaux d'aimants passifs et actifs qui maintiennent l'intensité du champ à la surface de la cible constante pendant toute la durée de vie de la cible, ce qui est essentiel dans le processus HIPIMS à la fois pour la réduction des arcs électriques et pour l'ionisation optimale du matériau pulvérisé. Ces caractéristiques, associées à la construction d'anodes solides, permettent d'obtenir des performances constantes et reproductibles dans des applications exigeantes telles que le HiPIMS ou toute autre application à haute puissance et à longue durée de vie. Les magnétrons HiPIMS sont refroidis directement et sont disponibles en version circulaire, linéaire et cylindrique.