Source de plasma à radicaux Xstream

Le système Xstream® RPS très efficace dissocie de grands volumes de NF3 et nettoie rapidement les chambres, améliorant ainsi les performances globales de l'outil. Sa chambre à plasma est composée d'un alliage d'aluminium de haute pureté et de capacités de refroidissement brevetées. Construit pour durer des années sans réparation ni revêtement coûteux de la chambre, le RPS Xstream est le choix intelligent pour la fiabilité et l'efficacité des performances. - Le RPS très fiable maximise le temps de fonctionnement de l'outil - Transport efficace des espèces réactives vers la chambre de traitement pour améliorer les performances - Source de plasma couplé à un transformateur (TCP) avec réseau d'appariement actif intégré (AMN) - Fréquence de fonctionnement de 225 kHz à 660 kHz - Modèles de puissance 8 kW/10 kW - Élimination des revêtements coûteux de la chambre grâce à un alliage d'aluminium personnalisé et à une anodisation dure de type III - Amélioration des performances et de la durabilité de la chambre grâce à un système de refroidissement qui minimise les contraintes thermiques - Augmentation de l'efficacité et amélioration de la fourniture de puissance au plasma grâce à un réseau d'adaptation active - Contrôle précis de la puissance et des processus grâce à des mesures en temps réel du plasma - Obtenir un allumage fiable et reproductible du plasma grâce à un système d'allumage breveté