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Systèmes de positionnement XZ
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Répétabilité: 0,02 mm - 0,1 mm
Charge: 3 kg - 120 kg
Vitesse: 100 mm/s - 4 000 mm/s
... linéaire XYZ Stage Gantry Robot Multi-axes Positioning Guide System Belt Driven Actuator Module à vis à billes, guide linéaire à courroie, plateau de positionnement, contrôleur de mouvement ...
FUYU Technology
... Vitesse maximale : 300 mm/s Charge maximale : 40 kg Vis à billes : G1610 Tables de positionnement linéaire avec entraînement par vis à billes les tables de positionnement linéaire se composent d'une ...
FUYU Technology
FUYU Technology
Répétabilité: 0,03 mm
Charge: 25 kg
Course: 50 mm - 1 000 mm
... maximale : 25kg Vis à billes : G1204/G1605/G1610 Module de vis à billes, guide linéaire à courroie, platine de positionnement, contrôleur de mouvement pour robot cartésien. Certification ...
FUYU Technology
Répétabilité: 0,001 µm - 4,5 µm
Course: 50 mm - 360 mm
Vitesse: 50 mm/s - 200 mm/s
... Système XZ-Phi Personnalisable : - Idéal pour la mise en place de vos systèmes de métrologie de haute précision - Résolutions des systèmes de mesure dans la plage submicrométrique ...
Répétabilité: 0,4 µm - 2,2 µm
Course: 100 mm - 300 mm
Vitesse: 1,12 mm/s - 25 mm/s
... XZ System für Labor- und Waferinspektion (Système XZ pour le travail et la fabrication de plaquettes) Personnalisable : - Idéal pour la mise en place et l'extension ...
... Systèmes XY et XZ avec différents axes de moteurs linéaires Les systèmes XY et XZ, construits à partir d'axes de moteurs linéaires standard, sont des systèmes ...
Répétabilité: 2 µm
Vitesse: 25 mm/s
... Système analytique de laboratoire XY avec support pour capteur et platine XY avec ouverture | Moteur DC, vis à billes, encodeur moteur système à 2 axes avec support de capteur pour l'analyse ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
... Système XZ pour le laboratoire et l'inspection des wafers | Vis à billes, moteur DC, rouleau croisé, système de mesure linéaire Système 3 axes de haute précision et ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
... Système UHV rapide à 3 axes LA80-LA90 UV / UHV / EUV, déplacement max. 500 mm de course, répétabilité de 2 µm, charge de 5 kg Cette platine de transfert rapide est adaptée aux applications précises, ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Une précision optimale et des performances géométriques exceptionnelles sur un axe linéaire unique sont indispensables à l'obtention d'une image imprimée d'une qualité parfaite.
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