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Platines de positionnement pour manutention de wafers
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Vitesse: 100, 15 mm/s
Charge: 750 kg
... personnalisé, ouverture lumineuse 460mm Offre une précision de mouvement constante et fiable dans une platine compacte et robuste. Résolution de positionnement ultrafine et capacité de charge utile suffisante. ...
Course: 1 mm - 40 mm
Vitesse: 1 mm/s - 200 mm/s
Répétabilité: 0,3 µm - 5 µm
... Axe linéaire UHV à grande vitesse Application : Applications de numérisation rapide et à haute résolution Avantages : Positionnement rapide en UHV, également à la verticale Caractéristiques : Résolution exceptionnelle, ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 100 mm
Vitesse: 1 mm/s - 10 mm/s
Répétabilité: 0,4 µm - 5 µm
... LT300 Etage linéaire précis à forte charge Application : Platine de transport, platine de balayage pour charges élevées Avantage : durée de vie élevée malgré le lubrifiant sec Caractéristiques : vis ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 300 mm
Vitesse: 1 mm/s - 10 mm/s
Répétabilité: 0,015 µm - 5 µm
... LA97 Platine linéaire nanométrique Application : balayage Avantage : positionnement nanométrique, également à la verticale Caractéristiques : positionnement avec une résolution extrême ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 185 mm
Vitesse: 1 mm/s - 8,4 mm/s
Répétabilité: 0,4 µm - 5 µm
... LA95 - Application : étape de transport, étape de numérisation - Avantages : durée de vie élevée malgré le lubrifiant sec - Caractéristiques : vis à billes avec lubrification sèche ou vis à billes avec lubrification ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 10 mm
Vitesse: 0,2 mm/s - 10 mm/s
Répétabilité: 0,2 µm - 5 µm
... haute résolution Application : micro-scène polyvalente Avantage : pour le balayage à haute résolution Caractéristiques : positionnement à très haute résolution - Vide : toutes les plages de pression HV /UHV jusqu'à ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 50 mm
Vitesse: 1 mm/s - 50 mm/s
Répétabilité: 0,3 µm - 5 µm
... Différentes variantes de moteurs : Nanomotion ou moteur piézo - Combinable avec un système de positionnement XYZ (par exemple MT105) - Combinable avec des platines rotatives (par exemple DT105) pour les ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 100 mm
Vitesse: 1 mm/s - 10 mm/s
Répétabilité: 0,4 µm - 5 µm
... KDT300 Platine xy stable à forte charge Application : étage de transport, étage de balayage pour des charges élevées Avantage : - durée de vie élevée malgré le lubrifiant sec Caractéristiques : durée de vie élevée malgré ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 16 mm
Vitesse: 1 mm/s - 2,2 mm/s
Répétabilité: 1 µm - 5 µm
... HT160 Etage de levage vertical précis pour charges élevées Application : étage de levage à vide Avantages : rigidité et charge élevées Caractéristiques : cale avec vis à billes - Vide : toutes les gammes HV / UHV / EUV jusqu'à 10E-11 ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 16 mm
Vitesse: 1 mm/s - 16,6 mm/s
Répétabilité: 0,7 µm - 5 µm
... HDT255 Table élévatrice à grande ouverture de charge Application : plateau élévateur à vide Avantages : - haute rigidité et charge, ouverture Caractéristiques : table à coins avec ouverture - Vide : toutes les gammes HV / UHV / EUV ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 1 mm - 25 mm
Vitesse: 1 mm/s - 3,4 mm/s
Répétabilité: 0,3 µm - 5 µm
... HT240 Etage de levage vertical précis pour charges élevées Application : Plate-forme de levage à vide Avantages : rigidité et charge élevées Caractéristiques : cale avec vis à billes - Vide : toutes les gammes HV / UHV / EUV jusqu'à ...
Steinmeyer Holding GmbH
Course: 30, 50, 100 mm
Vitesse: 5, 50 mm/s
... exigeantes La MT105 est une micro platine à usage universel qui impressionne avant tout par sa dynamique et sa vitesse élevées. Elle est conçue pour atteindre d'excellentes précisions de fonctionnement et de positionnement ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Course: 100, 50 mm
Vitesse: 5 mm/s
Répétabilité: 0,5 µm - 4 µm
... élevées jusqu'à 10 kg La platine linéaire est conçue pour positionner des charges à haute rigidité dans des conditions extrêmes, comme le vide poussé et l'ultravide. Équipé d'un frein à étrier piézoélectrique, ce système ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Course: 60, 130 mm
Vitesse: 5 mm/s
Répétabilité: 0,5 µm - 4 µm
... permet un positionnement très fin avec des charges élevées dans l'ultravide, même en direction verticale. Domaines d'application Installation de systèmes multi-axes, automatisation de processus, balayage 3D, balayage ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Course: 25 mm
Vitesse: 1,7 mm/s
... l'application - Adaptation individuelle à la situation d'installation dans la chambre - En option avec le contrôleur FMC400/450 Platine de levage de précision pour les charges élevées jusqu'à 40 kg La table élévatrice ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Course: 16 mm
Vitesse: 1,1 mm/s
... vis-mère en option, permet d'obtenir des pas très petits pour des charges comparativement élevées. Domaines d'application Positionnement de précision dans l'industrie et la recherche sous ultravide et sous rayonnement ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Course: 5 mm
... considérablement réduite, ce qui rend la platine plus légère, plus mince et permet de gagner de l'espace. La platine d'alignement XXY, également appelée platine XY0 ...
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