Générateurs de plasma

... eacute;charge détincelles à haute tension transportée sur la surface à traiter par un jet dair. Le plasma ainsi créé active les surfaces en matières plastiques, permettant ...

... appareil se compose d’un générateur semi-conducteur avec transformateur externe produisant de la haute tension et d’une tête d’électrode pour la décharge d’étincelles (plasma). Le raccordement entre ...

... de processus de la gamme TruPlasma Bipolar Série 4000 (G2.1) ont été spécialement mis au point pour le revêtement à base de plasma au moyen des procédés PVD, PECVD et de pulvérisation réactive. Avec des signaux de sortie ...

Les générateurs de la gamme TruPlasma Highpulse Série 4000 (G2) peuvent être utilisés sans modification à la place des générateurs de pulvérisation à courant continu sur des systèmes à magnétron existants. ...

... meilleurs résultats sur les processus plasma modernes. Plug & Play Les générateurs offrent une grande flexibilité d'utilisation ou d'échange en cas de modification du processus ou de rétrofits. Des ...

Une alimentation électrique du plasma stable et reproductible est d'une importance décisive pour le revêtement ou la structuration des surfaces. Les générateurs HF de la gamme TruPlasma RF Série 1000 ...

... jusqu'à 80 kW. Les générateurs VHF compacts vous convaincront également par leur grande rentabilité et leur conception robuste. Formation précise et rapide d'impulsions arbitraires Permet le meilleur contrôle du processus ...

Les générateurs pulsés TruPlasma DC Série 4000 (G2) ont été mis au point tout spécialement pour la pulvérisation DC réactive de matériaux difficiles. Les générateurs fonctionnant avec du courant continu ...

... TruPlasma Arc Série 3000 est une composante clé pour les processus à cathode à arc dans un environnement industriel rude. Les générateurs convainquent avant tout pour les revêtements décoratifs et en matériau dur. Ils ...

Avec ces générateurs HF, vous optez pour la sécurité : les appareils de la gamme TruPlasma RF Série 3000 se distinguent par leur construction robuste et leur grande efficacité. Ils conviennent donc parfaitement pour des ...

Les nouveaux réseaux adaptatifs de la gamme TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) représentent le complément idéal des générateurs HF TRUMPF Hüttinger. Grâce à un algorithme d'adaptation intelligent et à une plateforme de ...

... à tout moment le contrôle de votre processus : avec leur gestion d'arc et leur comportement d'allumage supérieurs, ces générateurs sont l'alimentation électrique idéale pour des revêtements de grandes surfaces (Large ...

... combinée de haute performance avec le contrôle précis de la puissance du plasma et des fonctions de surveillance. Avec le générateur de plasma FG5001, jusqu'à deux buses de plasma ...

Ce générateur de plasma se rend compte à la fois l'activation du générateur de plasma Openair ® ainsi que la surveillance des conditions de fonctionnement par le biais ...

... pour la série des générateurs 5000. Grâce à l'utilisation intégrée de surveillance analogique de la pression dans la chambre à plasma, du courant, de la tension et de la fréquence - ainsi que l'évaluation ...

... tra­vaux de labo­ra­toire. Ce sys­tème de labo­ra­toire plasma est idéal pour déter­mi­ner les para­mètres pour le net­toyage au plasma, l'ac­ti­va­tion au plasma et nano­couche (poly­mé­ri­sa­tion ...

... Alors que l'industrie des semi-conducteurs s'accélère vers une nouvelle inflexion, le générateur RF eVerest™ répond au besoin de contrôle transformationnel du plasma. Ses impulsions multi-niveaux configurables ...

... famille polyvalente de générateurs RF et de systèmes de distribution d'énergie Apex® présente une conception compacte et modulaire adaptée au montage en chambre. Utilisant une technologie de conversion RF sophistiquée, ...

... marché. Excellente stabilité du plasma, régulation RF précise, manipulation sophistiquée des impulsions et acquisition de données l'acquisition de données avancée offrent une latitude extrême en matière de contrôle du ...

... Synchronisation de phase (CEX) - Amélioration de la stabilité du plasma et de la répétabilité du processus - Contrôle précis de la puissance RF - Réponse rapide aux changements de plasma - S'adapter facilement ...